计算光刻软件是专门用于辅助半导体制造过程中光刻步骤的软件工具，它们可以帮助优化光刻工艺参数和提高生产效率。以下是一些主要的计算光刻软件：

cuLitho：

由英伟达（NVIDIA）开发的计算光刻软件库，专为GPU加速计算光刻设计，能够提高计算效率和精度。

Synopsys Proteus：

Synopsys公司的全芯片掩模合成系列软件，支持最新的EUV光刻工艺，提供高精度的邻近校正和掩模合成工具。

Calibre Computational Lithography：

Siemens旗下的芯片计算光刻软件，提供基于物理的模型支持，用于掩模优化和光刻过程模拟。

KLayout：

一款开源的光刻机编程软件，支持多种文件格式，提供布局设计、编辑、验证和导出等功能，并具备自动化功能。

MaskShop：

专业的光刻机编程软件，具有直观的用户界面和丰富的功能，支持多种文件格式，便于与其他软件进行数据交换。

ProMAX：

适用于各种光刻机设备的软件，提供全面的功能，包括图形编辑、处理和优化等，支持多种文件格式。

PyeCAD：

基于Python的光刻机编程软件，具有简洁易用的特点，支持多种文件格式，并提供丰富的API和库。

PROLITH 、 SENTAURUS、 SoftJOT：

这些是光刻模拟软件，用于模拟光刻过程，确定曝光参数，如曝光剂的浓度、孔洞大小和光刻胶的选择等。

GDSII编辑软件：

用于创建、编辑和导出图形数据系统（GDSII）文件，这些文件包含了光刻机需要的图案和结构信息。

Layout编辑器：

允许用户创建和修改微芯片的布局，是光刻机控制软件的一部分。

OPC软件：

光刻光罩近场调制（Optimal Control Process）软件，用于优化光刻机的操作和提高生产效率。

这些软件工具在半导体制造过程中发挥着至关重要的作用，它们通过精确的控制和模拟，帮助制造商实现更高效、更精确的光刻过程。在选择计算光刻软件时，制造商需要考虑软件的性能、兼容性、易用性以及是否支持最新的工艺技术。